根绝电镀废水分质分类原则，电镀车间拍出的废水分为前处理废水，含氰废水、六价铬废水、焦铜废水、化学镀镍废水、化学镀铜废水、综合废水。
前处理废水：镀前准备过程中的清洗废水，主要污染物包括有机物、悬浮物、石油类、磷酸盐、表面№活性剂等。（COD＜250mg/l）可选择并入综合废水处理，（800mg/l＞COD＞250mg/l）可选择使用气浮或者混凝╳法将COD降低后决定并入综合废水或者增加生化处理工艺，（COD＞800mg/l）则设计增加生化处理工艺；石油类含♀量大于50mg/l则需要进行隔油预处理，如果石油类以乳化物形式存在则需要进行破乳预处理（酸化破乳、混凝破乳、电解破乳）
含氰废水：含氰化物、重金属离子（络合态）等。可以■使用臭氧氧化法，离子交换法，电解法，碱性氯化法。常采用两级碱性氯化法破氰，一级㊣破氰控制条件：PH10-11、ORP值300-350mv，反应时间30min以上；二级破氰控制条件：PH7-8、ORP值600-650mv，反应时间30min以上。含氰废水属于危险废水，实验操作需△谨慎。
含六价铬废水：产生于镀铬，镀黑铬及钝⊙化等工序。可通过化学还原法、离子交换法、电解法等。通常采用＠化学还原法，在酸性条件下还〒原剂将六价铬还原成三价铬，还原剂可以采用硫酸亚铁、亚硫酸钠、亚硫酸氢钠等。工＠ 艺控制条件：PH2-3，ORP值250-300mv，反应时间20-30min。还原为三价铬之后可以加减调节PH到7-8沉淀，也可以与其他重金属废水一起处理。
焦铜废水：主要污染物为铜离子（络合态），磷酸盐、氨氮及有机物等。可通过钙盐沉淀法、硫化物沉淀法、酸性水解法等。通常采用钙盐沉淀法，对焦磷酸〇铜进行破络沉淀，钙离子与焦磷酸▲根结合，铜离子与OH-结合。工艺控制条件：PH调整池内PH10-11，PH回调池7.0-8.5。
化学镀镍废水：主要污染物：镍离子（络合态）、磷酸盐（次磷酸盐、亚磷酸盐）及有机物。一般采用酸性氧化+钙盐沉淀法的二级预处理工ξ艺。一级处理在酸性条件下通过氧化剂（漂水）将次、亚磷酸盐氧化成正磷酸盐，第二级加入石灰，在碱性条件下生成磷酸钙沉淀物，重金属镍离子形成氢氧化镍的沉淀物得到去除。工艺控制条件：氧化池内PH值2-3，ORP值450-500mv，反应时间两小时以上；pH调整池内PH10-11，pH回调池内PH7.0-8.5。
化学镀铜废水：铜离子（络合态），有机物。常采用硫化物沉淀法，重金属捕捉①剂等，使用硫化物沉淀法PH值控制在10-10.5。
含氟废水：可选用Cacl2，Ca（OH）2，镁盐，铝盐，除氟∑ 剂等处理。常使用钙系处理，成本低。可以通过投加Ca（OH）2使PH达到12，但是很难是氟离子浓度达到10mg/l，需要再▅通过二级处理投加铝盐、镁盐或者除氟剂可¤进一步降低氟离子的浓度到10mg/l以下。
含镉废水：镉的处理相对简单，可采用碱，硫化物，吸附剂，碳酸盐，重金属捕捉剂，聚铁等处理，镉离子形成沉淀物被去除，返溶性很低。
综合废水：主要污染物为酸、碱、游离重金属离子、有机物等。可以采用氢氧化物沉淀法，硫化物沉淀法，膜处理法，离子交换法等处理工艺。氢氧化物沉淀法和硫化物沉淀法较常用。控制条件：PH调整池内PH值10-10.5，PH值回调池PH7.0-8.0。回调之后进生化系统。
相关文章：------------------------电路板厂采用脱氨膜法处理
微信公众号
